機(jī)電工程設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)：第243期探討晶體管的開(kāi)關(guān)作用與工作狀態(tài)分析

在機(jī)電工程設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)系列知識(shí)分享第243期中，我們將探討晶體管的開(kāi)關(guān)作用。除了放大功能之外，晶體管還具備重要的開(kāi)關(guān)能力，在脈沖數(shù)字電路設(shè)計(jì)中被廣泛應(yīng)用。

當(dāng)我們?cè)诜治鯲cc和Rc時(shí)，可以畫出直流負(fù)載線，并且這條直線與輸出特性曲線相交于一點(diǎn)，這就是靜態(tài)工作點(diǎn)的位置。該位置由基極電流Ib決定。由于不同的偏置條件，晶體管有三種主要的工作狀態(tài)：放大、飽和以及截止。

1. 放大狀態(tài)：在這一狀態(tài)下，發(fā)射結(jié)處于正向偏置，而集電結(jié)則反向偏置（如圖所示）。此時(shí)的Vce等于Vcc減去Ic乘以Rc。在這個(gè)區(qū)域里，基極電流和集電極電流幾乎成比例關(guān)系，即Ic=βIb，其中β是增益因子。

2. 飽和狀態(tài)：當(dāng)增加偏置電流Ib時(shí)，工作點(diǎn)會(huì)沿輸出特性曲線移動(dòng)至彎曲部分。這時(shí)的晶體管已經(jīng)進(jìn)入飽和區(qū)，其特征為集電極-發(fā)射極電壓Vce變得非常低，通常小于0.3伏特（對(duì)于NPN型硅管而言）。此時(shí)，基極和集電極之間的電壓差反轉(zhuǎn)，導(dǎo)致兩者都處于正向偏置狀態(tài)。

當(dāng)晶體管進(jìn)入飽和工作區(qū)時(shí)，它的主要特征包括：（1）Ib

隨著對(duì)晶體管深入理解，我們還可以發(fā)現(xiàn)其在截止?fàn)顟B(tài)下的特性及應(yīng)用價(jià)值。更多內(nèi)容請(qǐng)期待后續(xù)分享。

(責(zé)任編輯：佚名)